耐热性高分子化合物超薄膜
日本《日经产业新闻》五月五日报道,上智大学教授绪方的研究小组制成的这种薄膜厚度仅三点五纳诺米,以三百摄氏度加热十三小时后仍保持良好状态,适于作光存储器等的非线性光学材料。
耐热性高分子化合物超薄膜 日本《日经产业新闻》五月五日报道,上智大学教授绪方的研究小组制成的这种薄膜厚度仅三点五纳诺米,以三百摄氏度加热十三小时'...
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