日用溅射法制成超导薄膜

【日本《日刊工业新闻》３月１０日报道】题：东大应用溅射法把高温超导材料制成薄膜
东京大学工学部笛木研究室应用溅射法研制成镧、锶、铜系的陶瓷薄膜超导材料。这种材料在绝对温度４０Ｋ呈超导状态，在１０Ｋ显示电阻为零。
自从国际商用机器公司中断约瑟夫森器件电子计算机研制以来，超导材料在电子学领域的利用研究即停滞了。而由于利用新的高温超导材料制成薄膜，就有可能应用半导体制造技术以研制约瑟夫森器件。
东大的这个研究小组在实验中，用电子束冲击镧、锶、铜的氧化物陶瓷溅射起的物质积聚在氧化锆衬底上，除加热衬底外，还谨慎选择了各种方法而获得成功。积聚成的薄膜是非晶态的，经适当的热处理，使之结晶，成为超导膜。
膜的厚度为几千埃，厚度是有可能控制的。成分是镧、锶、铜的三元系层状钙钛矿物，镧和锶的比率为０．９２５：０．０７５。超导开始温度与去年年底笛木教授等发现的同系材料大致相等。