新型光盘用记录材料

【《日本经济新闻》一月二十二日报道】富士通研究所二十一日宣布，它开发了一种应用新原理的可重写型光盘用记录材料，它打算在二三年之后把这种新的记录材料应用到电子计算机的数据文件上去。
新开发的记录材料利用了在基板上制作硒、铟、锑组成的合金结晶薄膜。过去的光记录材料主要使用碲的化合物。据说富士通研究所开发的新材料不包含易氧化的碲，因此不容易劣化，提高了作为记录材料的可靠性。
在记录信息时，使用五毫瓦高输出功率的激光照射（时间为零点一微秒），材料表面就形成突起，提高反射率大约百分之三十。在擦去记录的信息时，则用二至三毫瓦低输出功率的激光（时间为数微秒），使凹型的记录部分膨胀起来，降低反射率百分之二十。记录面的这种凹凸形状可以反复改变。
在靠不同的反射率记录和擦去信息的方法中，有一种相转变型，目前正在研究开发之中。这种方法是使记录材料从非晶态改变为晶态，或者相反。但是，这种方法因为极微量的热就可以使材料从晶态变成非晶态，所以难以长时间地保持稳定。
富士通研究所开发的记录材料具有长期稳定性，因为在记录和擦去信息时材料都处在晶体状态。
据介绍，使用这种材料制作直径为二十厘米的光盘，记录容量可达十亿字节。这个信息容量相当于过去电子计算机用磁盘的约二十倍，八英寸软盘的六百倍，可重写次数在一百万次以上，记录上去的信息可保存十年之久。