缩小投影式曝光装置

日本光学工业公司研究成功能使大规模集成电路批量生产的曝光装置，该装置可进行零点八微米超微图案的曝光，它是一种具有高折像度的缩小投影式曝光装置。作为顺应将来一兆位超大规模集成电路批量生产时代而开发的这种装置，为使其拥有可靠的高折像度，采用了超高压水银灯光内波长三百六十五毫微米的紫外线ｉ线并将新开发的ｉ线镜头配备在缩小投影机上。（译自日本《最新技术情报志》）