超电导同步加速器放射光装置

【日本《产经新闻》六月十三日报道】日本炼钢厂最近完成了能够制造一百兆位超超大规模集成电路的小型同步加速器放射光装置的样机，计划今年秋天进行试转。超大规模集成电路按现行方式（紫外线曝光）四兆位是最大限度，而利用新研制的小型同步加速器放射光装置能够制造一百兆位的超微细电路，从而，日本在超超大规模集成电路的研制方面领先世界一步。
要制造第五代电子计算机和人工智能机器人，就必须要研制一百兆位存储器的超超大规模集成电路。
一百兆位就相当于在指甲大小的一块芯片上集成一亿个晶体管，能够存储四百字稿纸三万二千张的信息。
小型同步加速器放射光装置的研制为实现理想的超超大规模集成电路开辟了道路。装置呈近六角形的环型，直径约五米。
装置共有六个角，每个角上都安装一块约五万高斯的超电导磁铁。环中是超高真空的，七亿电子伏的电子在环里高速旋转，释放出波长十埃的平行Ｘ线。从六个地方的取出口里把平行Ｘ线取出到外边。
这个平行Ｘ线由于波长极短，所以，不用折射就能做线宽为○点一微米的半导体超微细加工。按照顺序使用六个取出口，就能在半导体硅衬底上进行六个工序的加工。
小型同步加速器放射光装置为预先加速所轰击的电子，需要长几十米到几百米线性加速器和加速环以及存储轰击的电子取出放射光的存储环。
日本炼钢厂研制了能够用一个环同时进行加速和存储的系统。还研制成功了长五米的小型线性加速器。
该公司计划，今年秋天将让样机进行试转，明年向超超大规模集成电路的加工挑战，但将越过四兆位和十六兆位，一举使用一百兆位存储器的掩模进行曝光试验。