紫外线光刻制作超小型芯片

【美国《商业周刊》３月２０日一期报道】题：紫外线光刻制出超小型芯片
直至现在，光刻技术还局限在０．１８微米，足够用来在２００２年前后制造出１千兆位的存储器，但是可能还不能用于在２００５年前后制造出４千兆位的芯片。
然而，神奇的硅可能会再一次延长光刻的使用寿命。２月底，加州利弗莫尔的桑迪亚国立实验所推出了一种实验性的系统，该系统利用的是所谓的极远紫外线光。研究人员认为利用该系统将能制作出０．１微米宽的电路。由桑迪亚实验所和美国电话电报公司贝尔实验所联合开发的这项技术，能用于加工１６甚至６４千兆位芯片。