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超薄膜硅原子层形成技术

字号+作者：参考消息来源：参考消息 1994-06-08 08:00 评论(创建话题) 收藏成功收藏本文

超薄膜硅原子层形成技术《日本工业新闻》５月２５日报道，日本电气公司开发的这种新技术是用吸着力强的二氯化硅气作原料，控制膜的厚度，制成一层像原子那么薄的'...

超薄膜硅原子层形成技术

《日本工业新闻》５月２５日报道，日本电气公司开发的这种新技术是用吸着力强的二氯化硅气作原料，控制膜的厚度，制成一层像原子那么薄的薄膜，用于开发１０亿位级存储器件。

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