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线宽小于0.1微米的半导体

字号+作者：参考消息来源：参考消息 1994-01-18 08:00 评论(创建话题) 收藏成功收藏本文

线宽小于0.1微米的半导体日本《日刊工业新闻》１月６日报道，东芝公司已试制成０．０４微米的金属氧化物半导体器件，日立制作所、富士通等也在开发０．１微米级半导体器件'...

线宽小于0.1微米的半导体

日本《日刊工业新闻》１月６日报道，东芝公司已试制成０．０４微米的金属氧化物半导体器件，日立制作所、富士通等也在开发０．１微米级半导体器件。

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