激光蚀刻芯片新技术

【英国《新科学家》周刊７月３日一期报道】在半导体工业中，用于蚀刻芯片基片的光刻机聚焦精度必须达到微米级。稍有差错的话，几百万英镑就要付诸东流了。因此，半导体工业中一直采用昂贵的设备来探测激光束的波动。但是，最近的研究却发现了一种在原子精度水平上测量激光移动的廉价方法。
由谢菲尔德大学的研究人员研制的这项技术利用了激光“光斑”的现象：在原子水平上没有完美的平面，当激光反射时，由单个原子形成的粗糙度可以在激光波振面中产生干涉，所以反射光形成微小亮点和暗斑的闪烁。因为这种斑点是由于原子排布的不均匀性而引起的，所以基片平面上每一点的斑点都是独有的。因此，从基片平面上俯看下去，蚀刻激光在水平方向上最细微的移动也能改变斑点的图形。
该研究小组将摄像机的焦点对准蚀刻激光的反射光。将反射激光的图形输入计算机中，计算机利用研究人员编写的算法语言计算出任何变化量。
这项技术还可以应用于其他许多精密测量领域，如地震测量、灵敏机械以及超级显微镜位移测量。