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日立制作所研制成新结构场效应半导体

字号+作者：参考消息来源：参考消息 1988-01-03 08:00 评论(创建话题) 收藏成功收藏本文

日立制作所研制成新结构场效应半导体日本《日刊工业新闻》十二月十九日报道，制作这种半导体时应用了分子线外延技术。这种场效应半导体为研制下一代硅'...

日立制作所研制成新结构场效应半导体

日本《日刊工业新闻》十二月十九日报道，制作这种半导体时应用了分子线外延技术。这种场效应半导体为研制下一代硅晶高密度存储器件提供了可能。

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