单晶硅层高速积层技术
日本《日经产业新闻》6月25日报道,东芝公司创造的这项新技术是使衬底每分钟旋转500次到1万次,能使原料气体每分钟以数微米到数十微米的数量稳定地积层,为过去积层速度的两倍。
单晶硅层高速积层技术 日本《日经产业新闻》6月25日报道,东芝公司创造的这项新技术是使衬底每分钟旋转500次到1万次,能使原料气体每分钟以数微米到数十微米的数'...
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