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单晶硅层高速积层技术

字号+作者:参考消息 来源:参考消息 1993-07-25 08:00 评论(创建话题) 收藏成功收藏本文

单晶硅层高速积层技术 日本《日经产业新闻》6月25日报道,东芝公司创造的这项新技术是使衬底每分钟旋转500次到1万次,能使原料气体每分钟以数微米到数十微米的数'...

单晶硅层高速积层技术


日本《日经产业新闻》6月25日报道,东芝公司创造的这项新技术是使衬底每分钟旋转500次到1万次,能使原料气体每分钟以数微米到数十微米的数量稳定地积层,为过去积层速度的两倍。

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