新的光磁盘记录膜材料

【日本《日经产业新闻》５月２０日报道】东北大学副教授高桥研的研究小组开发了能够进行高精度高密度记录的光磁盘用新记录膜材料，比现用材料的存储容量提高三至四倍。
光磁盘和小型磁盘等的制造方法一样，但是记录膜采用磁性材料，可自由消除和存储信息。新的薄膜材料成分是锰和锑，还含微量的铂。