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高效率的溅射镀膜装置用离子源

字号+作者：参考消息来源：参考消息 1993-03-13 08:00 评论(创建话题) 收藏成功收藏本文

高效率的溅射镀膜装置用离子源日本《日经产业新闻》三月四日报道，日新电机公司开发的离子源释出的氩离子束用于溅射装置，使成膜速度比过去提高十倍，每分'...

高效率的溅射镀膜装置用离子源

日本《日经产业新闻》三月四日报道，日新电机公司开发的离子源释出的氩离子束用于溅射装置，使成膜速度比过去提高十倍，每分钟为三百纳米。

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