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线宽零点二微米以下图形成的曝光技术

字号+作者：参考消息来源：参考消息 1992-12-21 08:00 评论(创建话题) 收藏成功收藏本文

线宽零点二微米以下图形成的曝光技术日本《日刊工业新闻》十二月十五日报道，松下电器产业公司应用氟化氩准分子激光器，领先开发了这种技术，为制成十亿位'...

线宽零点二微米以下图形成的曝光技术

日本《日刊工业新闻》十二月十五日报道，松下电器产业公司应用氟化氩准分子激光器，领先开发了这种技术，为制成十亿位动态随机存取存储器开辟了道路。

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