用等离子蒸发法制作磁性薄膜

【法新社东京１０月２９日报道】日本的理光公司开发出一种有发展前途的制造磁性薄膜的新技术，这种薄膜能大大提高磁盘的性能，使之达到比目前磁盘的信息容量高出１０倍以上。
这家公司是制造办公室设备的主要生产厂家。它说这项技术是它同日本北方的东北大学一起开发的，采用的是它的形成磁性薄膜的专有工艺，称为等离子体蒸发法。
形成一氮化二铁磁性薄膜的这种新工艺比常规技术既快又省钱。这项技术的应用，将可以用来制造高性能的磁盘，能容纳大约１０千兆位信息。
理光公司说，为使薄膜具有更高饱和磁化强度，将进一步研究热处理条件和这项工艺的其它方面。