临界温度最高的超导体薄膜

【日本《日经产业新闻》报道】日本科学技术厅金属材料技术研究所的研究小组，在世界首次研制成功在最高温度下，电阻为零的薄膜。
要把超导体用于计算机元件中，就必须把超导体加工成更薄的薄膜。与加工块状超导体相比，在加工薄膜状超导体时，使超导的温度下降是一个难题。
据说这次开发的铋类超导体薄膜几乎与块状超导体一样，绝对温度达到１０８度。
其厚度为十万分之三毫米，不仅临界温度高，而且不易从基板上脱落。
迄今为止制作的铋类超导体薄膜其厚度为万分之二毫米，临界温度为绝对温度９７度。而当薄膜的厚度为十万分之七毫米、绝对温度为９５度，薄膜越薄，其特性则越低。这次研制成功的超导体薄膜是在极低温条件下，通过对制作出来的薄膜同时进行氩离子照射这种离子注入法，使超导体薄膜的临界温度达到与块状超导体同样的水平。