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使制作半导体薄膜的装置提高精度

字号+作者：参考消息来源：参考消息 1992-01-07 08:00 评论(创建话题) 收藏成功收藏本文

使制作半导体薄膜的装置提高精度日本《日经产业新闻》十二月二十八日报道，日本电气公司采用开了蜂窝状孔的特殊薄膜使金属原子通过的技术，使硅片表面形'...

使制作半导体薄膜的装置提高精度

日本《日经产业新闻》十二月二十八日报道，日本电气公司采用开了蜂窝状孔的特殊薄膜使金属原子通过的技术，使硅片表面形成金属薄膜的喷溅装置的精度大幅度提高。

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