铟砷化镓半导体
日本《日经产业新闻》十二月九日报道,富士通公司研制成功铟砷化镓半导体元件,其特点是耗电低,速度比硅半导体快二至三倍。该公司用这种半导体制作了四分之一分频器,确认这种器件能够以三点五伏的低电压工作,是用砷化镓制作的同样的分频器所需电压的一半,而动作速度和砷化镓分频器的速度一样,为十一点九千兆赫。
铟砷化镓半导体 日本《日经产业新闻》十二月九日报道,富士通公司研制成功铟砷化镓半导体元件,其特点是耗电低,速度比硅半导体快二至三倍。该公司用这种半'...
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