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制造下一代半导体存储器用的X射线曝光装置

字号+作者：参考消息来源：参考消息 1991-10-16 08:00 评论(创建话题) 收藏成功收藏本文

制造下一代半导体存储器用的X射线曝光装置日本《日刊工业新闻》十月八日报道，住友重机械工业公司研制成以同步加速器辐射光作光源的这种曝光装置调整'...

制造下一代半导体存储器用的X射线曝光装置

日本《日刊工业新闻》十月八日报道，住友重机械工业公司研制成以同步加速器辐射光作光源的这种曝光装置调整精度达到零点零八微米，能够描零点三微米以下的线路图形。

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