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日本制成铌系陶瓷超导薄膜

字号+作者:参考消息 来源:参考消息 1987-08-28 08:00 评论(创建话题) 收藏成功收藏本文

日本制成铌系陶瓷超导薄膜 【共同社东京8月24日电】鹿儿岛大学工学部的大串哲弥教授领导的研究小组,24日在京都召开的第18次低温物理学国际会议上宣布,该小组制'...

日本制成铌系陶瓷超导薄膜


【共同社东京8月24日电】鹿儿岛大学工学部的大串哲弥教授领导的研究小组,24日在京都召开的第18次低温物理学国际会议上宣布,该小组制成了在零下摄氏18度电阻为零的超导陶瓷薄膜。这在世界上乃是首次。
这个薄膜是把由镧、锶和铜的氧化物组成的超导陶瓷的铜置换成铌。镧锶铜组成的超导陶瓷一般不加热电路印刷板,而采用“电子磁控管喷溅法”蚀刻。
大串教授等人把电路板的铌加热30分钟,让它超过铜的熔点达到1200度。这样,电路板的铌原子就钻进了本来铜原子在晶体中所占的位置。大串教授说:“薄膜的晶体结构,连接电路板的部分和表面似乎不同,但总的说是不太清楚的。今后打算制造更加稳定的物质。”
另一方面,东京大学工学部的北泽宏一教授说:“即使得出在高温下形成超导的数据,但是也需要经过严格的测试和第三者的确认等手续。包括铜和铌是否真的可置换在内,确定晶体结构是先决条件,眼下恐怕还不能说是纯的超导物质。”

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