1972年中国就研制出了光刻机，那时光刻机巨头荷兰ASML还没诞生，项目在80年代却被迫终止。
光刻机为什么无法“复刻”?物镜系统唯有卡尔蔡司才能搞定?荷兰ASML公司到底卖不卖产品给我们?
我国60年代就曾布局过光刻机且技术先进，那时光刻机巨头ASML还没诞生，直到70年代，ASML仍是小字辈。
1972年，武汉无线电元件三厂编写的《光刻掩模版的制造》，32开66页。中国芯片光刻工艺研究起步，虽比美国稍晚，但跟日本差不多同时起步，比韩国、台湾早10年。
1965年中国科学院研制出65型接触式光刻机。1970年代，中国科学院开始研制计算机辅助光刻掩模工艺。清华大学研制第四代分步式投影光刻机，并在1980年获得成功，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平。
但是很可惜，中国在1980年代放弃电子工业，诸如光刻机等科技计划被迫下马，导致20年技术积累，全部付诸东流。1994年武汉无线电元件三厂破产改制，卖副食品去了。
以经济效益为中心，强迫各科研院所自负盈亏，造就了搞原子弹不如卖茶叶蛋的一个难堪时段。大量的战略技术项目被迫下马。如今看来，教训惨痛!
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