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新型半导体制造装置

字号+作者：参考消息来源：参考消息 1989年11月28日08:00:00 评论(创建话题) 收藏成功收藏本文

新型半导体制造装置日本《日经产业新闻》十一月十．七日报道，东北大学工学部大见教授的研究小组开发的这种装置既在衬片表面形成薄膜又可刻蚀，而且可把衬'...

新型半导体制造装置

日本《日经产业新闻》十一月十．七日报道，东北大学工学部大见教授的研究小组开发的这种装置既在衬片表面形成薄膜又可刻蚀，而且可把衬底温度控制在三百摄氏度左右（现在是一千摄氏度左右）。

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